Studio dello strato superficiale del silicio con deposizione di indio

Il lavoro riguarda il campo delle nanotecnologie, in forte espansione negli ultimi decenni. Molti aspetti rimangono ancora poco chiari e richiedono ulteriori approfondimenti. Il lavoro proposto contiene un'analisi delle leggi che regolano la formazione di elementi di ricostruzione e strutture a cluster sulle superfici Si(111) e Si(557). Sono state studiate le caratteristiche della formazione della ricostruzione 7x7 sulla superficie vicinale Si(557). È stato stabilito che, a differenza della...